รายงานวิจัยฉบับสมบูรณ์โครงการวิจัย การศึกษาสมบัติทางกายภาพและการยับยั้งเชื้อแบคทีเรียของฟิล์มบางแทนทาลัมออกไซด์

อารยา มุ่งชำนาญกิจ

Please use this identifier to cite or link to this item: https://rsuir-library.rsu.ac.th/handle/123456789/2381

Full metadata record

DC Field	Value	Language
dc.contributor.author	อารยา มุ่งชำนาญกิจ	-
dc.date.accessioned	2024-06-04T08:27:30Z	-
dc.date.available	2024-06-04T08:27:30Z	-
dc.date.issued	2558	-
dc.identifier.uri	https://rsuir-library.rsu.ac.th/handle/123456789/2381	-
dc.description.abstract	งานวิจัยนี้ศึกษาสมบัติทางกายภาพและการยับยั้งเชื้อแบคทีเรียของฟิล์มบางแทนทาลัมออกไซด์โดยการเตรีมฟิล์มบางด้วยวิธีรีแอคทีฟแมกนีตรอนสปัตเตอริงที่อุณหภูมิห้อง ในการเตรียมฟิล์มบางใช้เป้าแทนทาลัมความบริสุทธิ์ 99.995% แก๊สอาร์กอนและออกซิเจนความบริสุทธิ์ 99.999% เคลือบลงบนแผ่นซิลิกอน (100) และกระจกสไลด์ BK7 หลังจากนั้นนาฟิล์มบางแทนทาลัมออกไซด์ที่ได้ไปอบอ่อนที่อุณหภูมิ 300 500 600 700 และ 900 องศาเซลเซียส แล้วนาฟิล์มบางทั้งหมดไปวิเคราะห์ด้วยเครื่องวัดการเลี้ยวเบนรังสีเอกซ์ (XRD) เพื่อหาโครงสร้างผลึกของฟิล์มบาง ลักษณะพื้นผิวชองฟิล์มบางวิเคราะห์ด้วยเครื่องส่องกราดอิเล็กตรอน (FE-SEM) และวัดค่าความหยาบผิวด้วยกล้องจุลทรรศน์แบบแรงอะตอม ตามลาดับ สมบัติการยับยั้งเชื้อแบคทีเรียจะใช้เชื้อแบคทีเรีย 4 สายพันธุ์ได้แก่ Staphylococcus aureus, Staphylococcus epidermidis, Escherichia coli และ Pseudomonas aeruginosa โดยผลการทดสอบพบว่าฟิล์มบางแทนทาลัมออกไซด์ไม่มีสมบัติการยับยั้งเชื้อแบคทีเรีย	en_US
dc.description.sponsorship	สถาบันวิจัย มหาวิทยาลัยรังสิต	en_US
dc.language.iso	other	en_US
dc.publisher	สถาบันวิจัย มหาวิทยาลัยรังสิต	en_US
dc.subject	ฟิล์มบาง -- เครื่องมือและอุปกรณ์ -- วิจัย	en_US
dc.subject	เชื้อแบคทีเรีย	en_US
dc.subject	แทนทาลัม	en_US
dc.title	รายงานวิจัยฉบับสมบูรณ์โครงการวิจัย การศึกษาสมบัติทางกายภาพและการยับยั้งเชื้อแบคทีเรียของฟิล์มบางแทนทาลัมออกไซด์	en_US
dc.title.alternative	A study of physical and antibacterial properties of tantalum oxide thin films	en_US
dc.type	Other	en_US
dc.description.other-abstract	This research interested in the physical and antibacterial properties of tantalum oxide (TaO) thin films that were deposited by dc reactive magnetron sputtering at room temperature. A target of tantalum (99.995%) and a mixture of high purity argon and oxygen gases (99.999%) were used to deposit tantalum oxide films on to silicon wafers (100) and BK7 glass substrate. The influence of annealing temperatures (500–900 C ) on structural morphology and antibacterial properties were investigated. Grazing incident X-ray diffraction (GIXRD), field-emission scanning electronic microscope (FE-SEM), atomic force microscope (AFM) measurements are carried out to identify the crystalline structure, film morphology and surface roughness, respectively. Antimicrobial activity was tested on 4 bacterial strains, Staphylococcus aureus, Staphylococcus epidermidis, Escherichia coli and Pseudomonas aeruginosa. The antibacterial behavior of the tantalum oxide were not active against the tested bacteria.	en_US
Appears in Collections:	Sci-Research

Files in This Item:

File	Description	Size	Format
Araya Mungchamnankit.pdf		3.12 MB	Adobe PDF	View/Open

Show simple item record