Please use this identifier to cite or link to this item:
https://rsuir-library.rsu.ac.th/handle/123456789/2456
Title: | ยงานวิจัยฉบับสมบูรณ์ โครงการวิจัย เรื่องการสร้างชุดอุปกรณ์กล้องจุลทรรศน์สำหรับการฉายภาพในระบบต้นแบบโฟโตลิโทกราฟีแบบไม่ใช้มาส์กแสง |
Other Titles: | Instrumentation of optical microscopy projection for maskless photolithography |
Authors: | สื่อจิตต์ เพ็ชร์ประสาน พิชญ์สิณี สุวรรณแพทย์ สุวิชา ศศิวิมลกุล ชญาณิศา สุขเกษม |
Keywords: | กล้องจุลทรรศน์ -- เทคนิค;กล้องจุลทรรศน์ -- การออกแบบ;อุปกรณ์ชีวการแพทย์ |
Issue Date: | 2562 |
Publisher: | สถาบันวิจัย มหาวิทยาลัยรังสิต |
Abstract: | โครงการ “การสร้างชุดอุปกรณ์กล้องจุลทรรศน์สาหรับการฉายภาพในระบบต้นแบบโฟโตลิโทกราฟีแบบไม่ใช้มาส์กแสง” มีจุดมุ่งหมายในการออกแบบและผลิตชิ้นส่วนต่าง ๆ ที่ใช้สำหรับการวิจัยทางด้านแสงและการสร้างกล้องจุลทรรศน์สำหรับฉายภาพในระบบโฟโตลิโทกราฟี โดยไม่ใช้มาส์กแสง อุปกรณ์ต่างๆ ได้ผ่านการออกแบบบนโปรแกรมออกแบบสามมิติและโปรแกรมที่ใช้สำหรับสร้างภาษาจี ซึ่งเป็นภาษาที่ใช้ในการควบคุมในการทำงานของเครื่องกลึง อุปกรณ์ต่าง ๆ ถูกกลึงขึ้นจากอลูมิเนียมอัลลอยด์อุปกรณ์ทางแสงที่สร้างขึ้นสามารถนำมาสร้างทางเดินแสงของระบบกล้องจุลทรรศน์สาหรับการฉายภาพในระบบต้นแบบโฟโตลิโทกราฟีแบบไม่ใช้มาส์กแสง ซึ่งเป็นระบบโฟโตลิโทรกราฟีดัดแปลงจากระบบทั่วไป มีการใช้อุปกรณ์ฉายภาพแทนการใช้มาส์กแสง ทำให้การสร้างลวดลายด้วยกระบวนการโฟโตลิโทกราฟีทำได้สะดวกมากขึ้นและประหยัดงบประมาณในการสร้างมาส์กแสงได้ ซึ่งตัวอย่างลวดลายที่สามารถสร้างได้ด้วยระบบกล้องจุลทรรศน์สำหรับการฉายภาพในระบบต้นแบบโฟโตลิโทกราฟีแบบไม่ใช้มาส์กแสงบนกระจกปิดสไลด์ที่เคลือบด้วยสารไวแสงชนิดฟิลม์ ลวดลายที่ได้มีขนาดในระดับไมครอนลวดลายที่ได้มีหนา 30 ไมครอน กว้าง 68 ไมครอนจากการถ่ายภาพลวดลายด้วยกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราด ดังนั้นกล้องจุลทรรศน์สำหรับการฉายภาพในระบบต้นแบบโฟโตลิโทกราฟีแบบไม่ใช้มาส์กแสงมีประโยชน์ในด้านการวิจัย สามารถสร้างช่องไหลระดับจุลภาคสำหรับการผลิตห้องปฏิบัติการบนชิพและเกรตติงซึ่งสามารถนำมาใช้เป็นส่วนหนึ่งในการสร้างระบบในการตรวจจับคลื่นอัลตราซาวน์ที่จะทำต่อไปในอนาคต |
metadata.dc.description.other-abstract: | The research entitled an instrumentation of optical microscopy projection for maskless photolithography aims to design and manufacture the optomechanical components for implementation of the optically microscopy systems. These components were designed on computer-aided design software and using G-code, which is a language for controlling a CNC operating machine. The 3-dimensional models of the components were manufactured by milling and shaping the aluminum alloy with the CNC machine. After the production, the optomechanical components were utilized for implementation of the optical microscope projection for maskless UV photolithography system. The significant device in the microscope was a digital-micromirror device (DMD) aligned as a patterning reflector instead of a photomask. Hence, this system could provide a flexibility in working, saving the cost of mask fabrication and saving time. In the experiment, we have created the patterns on the cover slip using a dry-film photoresist. Using FE-SEM and optical macrozoom, the micropatterning of grating was measured in micro-scale thickness, approximately 30 μm, and its width at 68 μm. This grating would be useful for the medical ultrasound detection further. |
URI: | https://rsuir-library.rsu.ac.th/handle/123456789/2456 |
metadata.dc.type: | Other |
Appears in Collections: | BioEng-Research |
Files in This Item:
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
SUEJIT PECHPRASARN.pdf | 4.35 MB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.